हाइड्रोक्सीप्रोपाइल मिथाइलसेलुलोज एचपीएमसी गुण

आम तौर पर उपयोग किए जाने वाले सेलूलोज़ ईथर में एचईसी, एचपीएमसी, सीएमसी, पीएसी, एमएचईसी और इसी तरह के ईथर शामिल हैं।गैर-आयनिक पानी में घुलनशील सेलूलोज़ ईथर में चिपकने वाला गुण, फैलाव स्थिरता और जल धारण क्षमता होती है, और यह निर्माण सामग्री के लिए आमतौर पर इस्तेमाल किया जाने वाला योजक है।एचपीएमसी, एमसी या ईएचईसी का उपयोग अधिकांश सीमेंट-आधारित या जिप्सम-आधारित निर्माणों में किया जाता है, जैसे चिनाई मोर्टार, सीमेंट मोर्टार, सीमेंट कोटिंग, जिप्सम, सीमेंटयुक्त मिश्रण और दूधिया पुट्टी इत्यादि, जो सीमेंट या रेत की फैलाव क्षमता को बढ़ा सकते हैं। और आसंजन में काफी सुधार होता है, जो प्लास्टर, टाइल सीमेंट और पुट्टी के लिए बहुत महत्वपूर्ण है।एचईसी का उपयोग सीमेंट में न केवल मंदक के रूप में, बल्कि जल-धारण करने वाले एजेंट के रूप में भी किया जाता है।एचईएचपीसी के पास भी यह एप्लिकेशन है।

हाइड्रोक्सीप्रोपाइल मिथाइलसेलुलोज एचपीएमसी उत्पाद कई भौतिक और रासायनिक गुणों को विभिन्न प्रकार के उपयोगों और गुणों के साथ अद्वितीय उत्पादों में जोड़ते हैं:

जल प्रतिधारण: यह दीवार सीमेंट बोर्ड और ईंटों जैसी छिद्रपूर्ण सतहों पर पानी बनाए रख सकता है।

फिल्म बनाना: यह उत्कृष्ट ग्रीस प्रतिरोध के साथ एक पारदर्शी, सख्त और मुलायम फिल्म बना सकता है।

कार्बनिक घुलनशीलता: उत्पाद कुछ कार्बनिक सॉल्वैंट्स में घुलनशील है, जैसे इथेनॉल/पानी, प्रोपेनॉल/पानी, डाइक्लोरोइथेन का उचित अनुपात और दो कार्बनिक सॉल्वैंट्स से बना एक विलायक प्रणाली।

थर्मल जेलेशन: जब किसी उत्पाद के जलीय घोल को गर्म किया जाता है, तो एक जेल बन जाएगा, और ठंडा होने पर गठित जेल वापस एक घोल में बदल जाएगा।

सतह गतिविधि: आवश्यक पायसीकरण और सुरक्षात्मक कोलाइड, साथ ही चरण स्थिरीकरण प्राप्त करने के लिए समाधान में सतह गतिविधि प्रदान करता है।

सस्पेंशन: हाइड्रोक्सीप्रोपाइल मिथाइलसेलुलोज ठोस कणों को जमने से रोकता है, इस प्रकार तलछट के निर्माण को रोकता है।

सुरक्षात्मक कोलाइड्स: बूंदों और कणों को आपस में जुड़ने या जमने से रोकें।

पानी में घुलनशील: उत्पाद को अलग-अलग मात्रा में पानी में घोला जा सकता है, अधिकतम सांद्रता केवल चिपचिपाहट द्वारा सीमित होती है।

गैर-आयनिक जड़ता: उत्पाद एक गैर-आयनिक सेलूलोज़ ईथर है जो धातु के लवण या अन्य आयनों के साथ मिलकर अघुलनशील अवक्षेप नहीं बनाता है।

एसिड-बेस स्थिरता: PH3.0-11.0 की सीमा में उपयोग के लिए उपयुक्त।